化學氣相沉積氣體用來生成沉積薄膜。不同的沉積薄膜需要不同的電子氣體。
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刻蝕過程需要電子氣體與被刻蝕物發(fā)生化學反應?？涛g氣體與被刻蝕物發(fā)生化學反應，導致被刻蝕物消除。
離子注入氣體是在作為參雜氣體注入到晶圓表面。
隨著市場的發(fā)展，公司自主研發(fā)半導體其他工藝所需的稀有氣體及其他混合氣體，解決部分“卡脖子”產品問題。
